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    產品及應用

    SiC晶圓激光快速退火系統

    產品介紹

    采用激光對重摻雜 SiC 表面沉積一種或幾種過渡金屬進行合金化,精確控制激光能量和分布,形成良好的歐姆接觸。采用激光方式可忽略襯底正面結構的影響,更好的與減薄工藝兼容,簡化工藝流程,提高器件性能。

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    產品特點
    • ·  支持薄片退火                                           ·  優秀的退火表面形貌和電學特征

    • ·  10-5Ωcm2量級的比接觸電阻率             

    •  ·  高效率、低成本控制

    • ·  I F 值提高 30% 以上                                 ·  完整的全程監控反饋功能


    應用產品類型

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    技術指標

     

     

    項目LA2540S LA2550S
    晶圓尺寸4/6 Inch 兼容
    典型掃描時間180 sec/p @4 inch90 sec/p @4 inch
    激光能量密度≥ 5J/cm2
    激光輸出穩定性≤ 2%,RMS,4hrs
    比電阻接觸率

    ≤ 10 -5Ωcm2

    自動傳片系統雙 LoadPort、多關節機器手、預準直器

     

     

    應用案例

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    Chengdu Laipu Technology co.,LTD

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